Verfahren zur lasergestützen chemischen Gasphasenabscheidung (CVD)

Kurzbeschreibung:
Mit diesem neuartigen Verfahren werden durch die Plasmen in der Gasphasenabscheidung (chemische Gasabscheidung CVD) genutzte Vorläuferverbindungen durch den Einsatz von einem oder mehreren Lasern gezielt lokal gespalten.

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